應用分享 | 氬離子設備 (XPS、PHI710、TOF-SIMS)

更新時間：2024-11-13

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氬離子設備

對于表面分析，樣品表面極易被污染。

為了清潔被污染的固體表面,在能譜分析中,常常利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面。

利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖。

同時，離子設備也兼具中和樣品表面荷電的作用。

一、氬離子設備原理圖

▲ 圖1 氬離子設備原理圖

二、氬離子設備實圖

▲圖2 氬離子設備圖

三、氬離子設備主要作用

> 清潔(樣品表面被污染)

清潔被污染的樣品表面,利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面

> 濺射(對樣品進行深度剖析)

利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,以獲得元素成分沿樣品深度方向的分布

> 荷電中和

中和樣品表面的荷電

四、氬離子設備多種參數設定

根據樣品需要設置多種參數選擇性

▲圖3 氬離子設備多種參數選擇

五、不同設備儀器的氬離子設備

▲圖4 氬離子設備在XPS上

▲圖5 氬離子設備在PHI710上

▲圖6 氬離子設備在TOF-SIMS上

六、簡易便捷的氬離子設備燈絲實體圖

▲ 圖7 XPS的氬離子設備燈絲

▲ 圖8 PHI710的氬離子設備燈絲

▲圖9 TOF-SIMS的氬離子設備燈絲

結語

氬離子設備已廣泛應用在各表面分析設備上，且可以根據樣品進行參數的設定選擇，是進行表面分析不能缺少的構件。

-轉載于《PHI表面分析 UPN》公眾號

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